リコーが示すプライベートAIの未来：オンプレミス向け高性能日本語LLMがビジネスにもたらす変革とは

リコー、Google「Gemma 3 27B」ベースの高性能日本語LLMを発表
AI Workstyle Lab編集部コメント

リコー、Google「Gemma 3 27B」ベースの高性能日本語LLMを発表

株式会社リコーは、Googleが提供するオープンモデル「Gemma 3 27B」を基盤とした、オンプレミス環境への導入に最適な高性能日本語大規模言語モデル（LLM）を開発しました。この次世代モデルは、リコー独自のモデルマージ技術を活用し、ベースモデルから大幅な性能向上を実現しています。

具体的には、約1万5千件のインストラクションチューニングデータで追加学習したInstructモデルから抽出したChat Vectorなど、複数のChat Vectorを開発し、「Gemma 3 27B」にマージすることで性能を高めています。

最先端モデルと同等の性能と優れた応答性

同規模パラメータ数のLLMとのベンチマーク評価の結果、米OpenAIのオープンウェイトモデル「gpt-oss-20b」をはじめとする最先端の高性能モデルと同等の性能が確認されました。特に、複雑な指示やタスクを含む日本語ベンチマーク「ELYZA-tasks-100」や、日本語のマルチターン対話能力を評価する「Japanese MT-Bench」において、高いスコアを示しています。

本モデルは、学習済み知識から直接回答を生成する思考プロセスを持つ非推論モデルならではの高い初期応答性（Time to First Token: TTFT）を実現しつつ、高い執筆能力も兼ね備えており、ビジネス用途での活用に適しています。

低コスト・省エネルギーでプライベートLLM導入を促進

モデルサイズは270億パラメータとコンパクトでありながら高性能を実現しており、PCサーバー等で構築できるため、低コストでのプライベートLLM導入を可能にします。LLMの高い電力消費による環境負荷が課題となる中、コンパクトで高性能な本LLMは省エネルギー・環境負荷低減にも寄与します。

エフサステクノロジーズとの連携で提供開始

本LLMは、お客様の要望に応じて個別提供が可能です。さらに、2025年12月下旬からは、エフサステクノロジーズ株式会社が提供するオンプレミス環境向けの対話型生成AI基盤「Private AI Platform on PRIMERGY（Very Small モデル）」に、本LLMの量子化モデルと生成AI開発プラットフォーム「Dify（ディフィ）」をプリインストールした形で、リコージャパン株式会社から提供されます。

これにより、お客様はDifyを活用して自社の業種・業務に合わせた生成AIアプリケーションをノーコードで作成できます。また、リコージャパンが提供する「Dify支援サービス」による伴走支援も利用できるため、AIの専門人材がいない企業でも安心して生成AIの業務活用を開始できる体制が整っています。

今後の展望とリコーのAI開発の歩み

リコーは今後、推論性能や業種特化モデルの開発を進めるとともに、同社が強みとするマルチモーダル性能と合わせて、LLMラインアップをさらに強化していく方針です。リコーは1980年代にAI開発を開始し、画像認識技術や自然言語処理技術、大規模言語モデルの研究開発に長年取り組んできました。独自のモデルマージ技術（特許出願中）など多様な手法を活用し、お客様の用途や環境に最適な企業独自のプライベートLLMを低コスト・短納期で提供することを目指しています。

リコーのAI開発については、以下のリンクから詳細を確認できます。

リコーのAIソリューション

本モデルのベースとなったGoogleの「Gemma 3 27B」に関する情報はこちらです。

Gemma models

また、比較対象となったOpenAIのオープンウェイトモデル「gpt-oss-20b」については、以下のリンクで紹介されています。

Introducing GPT-OSS

AI Workstyle Lab編集部コメント

リコーが開発したこの日本語LLMは、特にセキュリティとコストを重視する企業にとって画期的な選択肢となるでしょう。オンプレミス環境で最先端のAIモデルを導入できるため、機密情報を扱う業務でも安心して生成AIを活用できます。Difyと連携し、ノーコードでアプリケーションを開発できる点は、AI専門人材が不足している企業にとって大きなメリットです。これにより、社内業務の効率化や顧客対応の質の向上など、幅広いビジネス領域でのDX加速が期待され、企業の競争力強化に直結すると考えられます。

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