出展内容と展示ブース
Patentfieldの展示ブースは、スタートアップ・アカデミアエリアの「S08」に位置しています。主な出展内容は以下の通りです。
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AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfield
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生成AI調査・分析オプション Patentfield AIR
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API連携オプション構築事例「MCPを活用した知財AIエージェント」の紹介
セミナーのご案内
会期中、スタートアップ・アカデミア プレゼンステージにて、プレゼンテーションが実施されます。テーマは『MCPを活用した「知財AIエージェント構築」と特許分析の効率化』です。申込不要で、直接会場で聴講できます。両日とも同じ内容で、以下の時間に開催されます。
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6月18日(木) 13:50 ~ 14:10
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6月19日(木) 10:20 ~ 10:40
セミナーの詳細はこちらで確認できます。
https://aee.expo-info.jsae.or.jp/ja/nagoya/presentation_stage/#startup
AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfieldについて
「AI特許総合検索・分析プラットフォーム Patentfield」は、国内外8000万件の特許データを網羅し、生成AIが特許の核心を分かりやすい文章で要約・構造化することで、特許調査の体験を革新します。ものづくりや製品開発における知的財産活動を支援し、これまで専門知識が必要とされた特許・意匠調査・分析業務を、初めて利用する方でも使いやすく、かつリーズナブルに提供します。AIによるサポート機能により、特許調査・分析に関わる業務を最大80%効率化することが可能とされています。
詳細はこちらの公式サイトをご覧ください。
https://patentfield.com/
生成AI調査・分析オプション Patentfield AIR
このオプションは、Patentfieldのインターフェースに生成AI機能を統合することで、大量の特許文献の査読・分析プロセスを大幅に効率化し、従来にないスピードでの特許査読・分析を実現します。
API連携オプション構築事例「MCPを活用した知財AIエージェント」の紹介
Patentfieldの「API連携サービス」を活用した、高度な生成AI活用事例が紹介されます。近年注目される「MCP(Model Context Protocol)」を利用し、特許データベースであるPatentfieldとLLM(大規模言語モデル)をシームレスに連携させた『自律型・知財AIエージェント』の構築事例が紹介される予定です。
「人とくるまのテクノロジー展 2026 NAGOYA」開催概要
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会期: 2026年6月17日(水)~19日(金)
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場所: Aichi Sky Expo(愛知県国際展示場)
入場方法などの詳細については、上記URLをご参照ください。
AI Workstyle Lab編集部コメント
PatentfieldのAI特許分析プラットフォームは、企業にとって知的財産戦略を大きく変革する可能性を秘めています。特許調査・分析の効率化は、研究開発サイクルの短縮や、競合優位性の早期発見に直結するため、特に製造業やテクノロジー企業での導入が進むでしょう。これにより、これまで専門家でなければ難しかった知財活用が一般化し、企業のイノベーション創出を加速させると考えられます。中小企業にとっても、リーズナブルな価格設定は大きなメリットとなり、知財戦略の敷居を下げる効果が期待されます。
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本記事は、各社の公式発表および公開情報を基に、AI Workstyle Lab編集部が 事実確認・再構成を行い作成しています。一次情報の内容は編集部にて確認し、 CoWriter(AI自動生成システム)で速報性を高めつつ、最終的な編集プロセスを経て公開しています。

